Жидкофазная эпитаксия арсенида индия.

Несмотря на то, что получение эпитаксиальных слоев из паровой фазы является основным направлением в технологии изготовления полупроводниковых приборов процесс эпитаксиального оста из жидкой фазы в ряде случаев обладает некоторыми преимуществами к примеру

при получении сильнолегированных слоев;

p-n переходов высокого качества.

Выращивание эпитаксиальных слоев арсенида индия производится с использованием легкоплавких металлов или их смесей, которые могут быть как донорными так и акцепторными примесями в получаемых слоях.

На качество и электрофизические свойства эпитаксиальных слоев, выращиваемых из жидкой фазы, влияют следующие факторы:

скорость охлаждения раствора-расплава;

начальная равновесная температура раствора-расплава;

увеличение веса растворяющего вещества сверх равновесного значения;

соотношение объема расплава и контактирующей площади поверхности подложки с расплавом;

физико-химическая природа растворителя и растворимого вещества;

металлографическое состояние поверхности подложки;

чистота используемых в процессе веществ и конструкционных материалов.

Электронографические и металлографические исследования установили, что слои выращенные в высокотемпературных областях, имеют более совершенную структуру по сравнению с теми, которые которые получены в низкотемпературных областях.


Гомо сапиенс и геном
Гомо сапиенс и геном ...

Свойства арсенида индия
Арсенид индия. Свойства, применение. Особенности получения эпитаксиальных пленок. . Эпитаксиальный арсенид индия - перспективный материал электронной техники. Высокая подвижность ...

Птицы. О гусеобразных
Птицы. О гусеобразных К многочисленному отряду гусеобразных, обитающих на всех материках земного шара, относятся утки, гуси, лебеди, казарки, гаги. ...